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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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電漿清洗機(jī)等離子體絕緣層處理及有機(jī)半導(dǎo)體材料的應(yīng)用

電漿清洗機(jī)等離子體絕緣層處理及有機(jī)半導(dǎo)體材料的應(yīng)用:
一、絕緣層處理-電漿清洗機(jī)等離子體潤(rùn)滑硅膠表面,提升材料的兼容性
        當(dāng)電漿清洗機(jī)設(shè)備運(yùn)行時(shí),電荷首先在半導(dǎo)體與絕緣層的接觸面上積累和傳輸。為了確保網(wǎng)格電極與有機(jī)半導(dǎo)體之間的網(wǎng)格電極泄漏電流較小,絕緣層數(shù)據(jù)電阻較高,即絕緣性較好。目前,常用的絕緣層數(shù)據(jù)是無(wú)機(jī)絕緣層,如氧化層。在此期間,二氧化硅通常用于有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管中的絕緣層,但由于二氧化硅表面存在一些缺陷,與有機(jī)半導(dǎo)體數(shù)據(jù)的兼容性較差。因此,硅片表面需要等離子體進(jìn)行潤(rùn)滑,測(cè)試后頻率為13.56MHz真空系列處理效果好。

電漿清洗機(jī)

二、有機(jī)半導(dǎo)體材料-電漿清洗機(jī)等離子體活化改性處理,提高遷移率
        目前,有機(jī)半導(dǎo)體材料主要分為小分子材料和聚合物材料兩類。有機(jī)半導(dǎo)體可分為P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體。在P型半導(dǎo)體中,大多數(shù)載流子是空穴結(jié)構(gòu),而N型半導(dǎo)體載流子是電子結(jié)構(gòu)。除了必要的穩(wěn)定性外,P型半導(dǎo)體還具備以下條件:
(1)HOMO能級(jí)高,能與電極形成歐姆接觸,使空穴能順利注入;
(2)給電子能力強(qiáng)。常見的包括:稠環(huán)芳烴,如五苯(Pentacene),紅熒烯(Rubrene);聚合物,如聚合物(3-己基噻命令),可通過(guò)電漿清洗機(jī)等離子體處理激活和修改有機(jī)半導(dǎo)體。利用等離子體修復(fù)絕緣層表面,使有機(jī)材料的沉積更加均勻、平整,大大提高了設(shè)備的遷移率,提升了設(shè)備的功能。等離子體清洗機(jī)對(duì)有機(jī)半導(dǎo)體設(shè)備的激活和改性,顯著提高了設(shè)備的性能。

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