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CRF plasma 等離子清洗機

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氣流量對plasma等離子清洗機的影響有哪些呢

氣流量的大小對清洗的影響較大，等離子清洗機在清洗中，要保持一定的真空度(0.1-0.2torr)才能產(chǎn)生輝光進行清洗，在0.1-0.2torr真空度下對于清洗的效(果)都是相同的。在真空度越低的狀態(tài)下，相對的輝光較強。在清洗的過程中，需要隨時將被清洗下來的污染物用真空泵抽走，同時也要隨時補充干凈的氣體，為保持一定的真空度，進氣與抽出的氣體應該處于一種動態(tài)平衡的狀態(tài)，如果進氣量過大，對真空泵的要求就高，這樣一來將浪費氣體。另外，針對高要求的超清洗氣源應先過濾，再輸入plasma等離子清洗機的腔體，這時的氣體流量也不可過大.

plasma等離子清洗機

plasma等離子清洗機可以被用于化學表面改性，如果將物質(zhì)的天然氧化層洗掉后，將物體拿出清洗腔它將會被再次氧化。不同的氣體將會對物體表面產(chǎn)生不同的作用。(氧氣和空氣能氧化物體而氫氣和惰性氣體則不會)注意：如果用氧氣來清洗，應使用專用的真空泵。等離子清洗機可被用于植入物的清洗并改善其粘附性。注意如果你將一個干凈的物體和一個較臟的物體同時放入清洗腔，如果清洗時間不夠或是氣體流量不強，有可能較臟物體被洗下來的污染物會附著在干凈物體上。

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