CRF等離子表面處理機(jī)與半導(dǎo)體材料/Led、PTS/oled解決方案：
        CRF等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體業(yè)的使用是根據(jù)集成電路芯片的各個(gè)電子元器件及電極連接線很細(xì)致，因此在制造環(huán)節(jié)中就容易存在塵土，或是有機(jī)化合物等污染源，容易致使晶體的損傷，使其短路等問(wèn)題，為了能夠要消除這類(lèi)制造環(huán)節(jié)中產(chǎn)生的問(wèn)題，在之后的制造環(huán)節(jié)中引入了等離子技術(shù)表面處理機(jī)專(zhuān)用設(shè)備展開(kāi)前加工，應(yīng)用等離子技術(shù)表面處理機(jī)是為了能夠更快的維護(hù)我們的的產(chǎn)品，在沒(méi)有損壞半導(dǎo)體芯片表面的功能的狀況下來(lái)有效的應(yīng)用等離子技術(shù)專(zhuān)用設(shè)備展開(kāi)消除表面有機(jī)化合物和雜物等。
       在Led注環(huán)氧膠環(huán)節(jié)中，空氣污染物會(huì)致使汽泡的成泡率較高，隨后致使產(chǎn)品品質(zhì)及使用期限下降，因此，避免上膠環(huán)節(jié)中組成汽泡同樣的是我們關(guān)心的問(wèn)題。通過(guò)微波射頻等離子清洗后，處理芯片與基材會(huì)更為緊密的和膠體溶液緊密結(jié)合，汽泡的組成將大大減少，同時(shí)也將明顯不斷進(jìn)步排熱率及光的出射率.將CRF等離子表面處理機(jī)使用到金屬材料表面除油及清理。

一、CRF等離子表面處理機(jī)PTS/oled面板解決方案
       這類(lèi)關(guān)系到的是CRF等離子表面處理機(jī)的清理功能，PTS層面:觸摸顯示屏的主要加工工藝的清理，不斷進(jìn)步OCA/ocr，壓層，ACF，aR/AF鍍層等加工工藝上的粘臺(tái)力/鍍層力，為消除汽泡/雜質(zhì)，通過(guò)各種大氣壓力等離子技術(shù)形式的使用，能夠?qū)⒏鱾€(gè)玻璃，溥膜勻稱(chēng)的大氣壓力等離子技術(shù)放電使表面無(wú)損傷展開(kāi)加工。
二、真空系統(tǒng)CRF等離子表面處理機(jī)解決方案
       鑒于真空系統(tǒng)CRF等離子表面處理機(jī)中有很高的能量密度,事實(shí)上能將具備比較穩(wěn)定融熔相的大多數(shù)粉末狀材料轉(zhuǎn)換成為細(xì)膩的、堅(jiān)固粘附的噴漆層對(duì)噴漆層的品質(zhì)起決策功效的是噴涌粉末在擊打產(chǎn)品工件表面一瞬間的熔融情況。真空系統(tǒng)等離子噴涂技術(shù)應(yīng)用為現(xiàn)代智能化多功能涂復(fù)專(zhuān)用設(shè)備不斷進(jìn)步了效率。