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CRF plasma 等離子清洗機

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誠峰等離子體發(fā)生器清洗/刻蝕機對大多數(shù)高分子復合材料的濺射

誠峰等離子體發(fā)生器清洗/刻蝕機對大多數(shù)高分子復合材料的濺射:
       等離子體發(fā)生器清洗/蝕刻機產(chǎn)生的等離子體在封閉的空腔內(nèi)設置2個電極生成靜電場,用真空泵實現(xiàn)一定的真空度。隨著氣體越來越薄,分子間距和分子或離子的自由移動距離越來越長。在靜電場的作用下,它們會發(fā)生碰撞,生成等離子體。這些離子體具有很高的活性,它們的能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,并在任何暴露的表面引起化學反應。不一樣氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)。例如,氧氣等離子體具有較高的氧化性,能夠氧化光刻膠反應產(chǎn)生氣體,從而達到清潔效果;腐蝕性氣體的等離子體具有良好的各向異性,可以滿足腐蝕的需要。利用等離子處理時會發(fā)出輝光,故稱之為輝光放電處理。

等離子體發(fā)生器

       等離子體發(fā)生器技術的最大特點是可以處理金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)聚合物材料,如聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧樹脂,甚至聚四氟乙烯,可以實現(xiàn)整體、局部和復雜結構的清潔。
       經(jīng)濟快速發(fā)展,人們的生活水平不斷提高,對消費品的質(zhì)量要求也日益提高,等離子體發(fā)生器隨之逐步進入生活消費品生產(chǎn)行業(yè)中;另外,科技的不斷發(fā)展,各種技術問題的不斷提出,新材料的不斷涌現(xiàn),越來越多的科研機構已認識到等離子技術的重要性,并投入大量資金進行技術攻關,等離子體發(fā)生器在其中發(fā)揮了非常大的作用。我們相信等離子體技術用范圍會越來越廣;技術成熟,成本降低,應用會越來越普及。

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