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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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手動(dòng)式和在線(xiàn)等離子體表面處理器在結(jié)構(gòu)和功能上有什么區(qū)別

手動(dòng)式和在線(xiàn)等離子體表面處理器在結(jié)構(gòu)和功能上有什么區(qū)別:
        等離子體表面處理器的工作方式屬于干式清洗方式,在半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)、微機(jī)電系統(tǒng)、光電元件等包裝領(lǐng)域具有明顯的優(yōu)勢(shì),有利于提高晶粒與焊盤(pán)導(dǎo)電膠的附著力、焊膏滲透性、金屬鍵合強(qiáng)度、塑料密封和金屬外殼涂層的可靠性。在實(shí)際處理中,根據(jù)等離子體處理設(shè)備的運(yùn)行模式,可分為獨(dú)立等離子體清洗機(jī)和在線(xiàn)等離子體清洗機(jī)。
一、離線(xiàn)式等離子體表面處理器
       離線(xiàn)式等離子體清洗機(jī)主要包括等離子體發(fā)生系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣路控制系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、真空發(fā)生系統(tǒng)、鈑金件等部件。
二、在線(xiàn)等離子體表面處理器
        在線(xiàn)等離子體清洗機(jī)也有其他名稱(chēng),如連續(xù)、不間斷等離子體清洗機(jī),在線(xiàn)等離子體清洗機(jī)是在離線(xiàn)式等離子體清洗機(jī)的基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)的,即滿(mǎn)足產(chǎn)品處理的均勻性和一致性,同時(shí)提高自動(dòng)化程度,減少人工參與。因此,除上述離線(xiàn)式等離子體清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)組成外,還增加了主要部件:如,上下材料推送結(jié)構(gòu)、上下材料放置平臺(tái)、上下材料提升系統(tǒng)、上下材料傳輸系統(tǒng)、上下材料配送結(jié)構(gòu)和相應(yīng)的設(shè)備主體框架。

等離子體表面處理器


三、兩種設(shè)備在半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的作用
       兩者都可以很好地處理半導(dǎo)體包裝領(lǐng)域的材料,以滿(mǎn)足我們要求的標(biāo)準(zhǔn),如銅引線(xiàn)框架,由于銅氧化物和其他有機(jī)污染物會(huì)導(dǎo)致密封模型和銅引線(xiàn)框架分層,從而導(dǎo)致密封和慢性滲透現(xiàn)象,也會(huì)影響芯片粘接和引線(xiàn)鍵合質(zhì)量,因此需要使用等離子體處理系統(tǒng)去除氧化物和有機(jī)物,同時(shí)達(dá)到表面激活和粗化的效果,確保線(xiàn)路和包裝的可靠性。
       因此,雖然在線(xiàn)等離子體表面處理器是在離線(xiàn)式的基礎(chǔ)上迭代更新的具有更多細(xì)分處理要求的設(shè)備,但兩者在處理材料時(shí)都有非常明顯的處理效果。區(qū)分它們的是處理前材料處理標(biāo)準(zhǔn)的差異,這導(dǎo)致我們?cè)趯?shí)際使用中根據(jù)具體需要選擇不同的設(shè)備。


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