20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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plasma表面清洗設(shè)備常用的幾種功能作用： 1、plasma表面清洗設(shè)備激活金屬： 盡管金屬被激活，但等離子表面處理設(shè)備激活過程非常不穩(wěn)定，所以有效時間很短。...
發(fā)布時間:2022-12-12
為什么crf電漿清洗機(jī)處理須要真空環(huán)境下，其原理是什么？ crf電漿清洗機(jī)須要引進(jìn)真空環(huán)境的原因很多，但實質(zhì)上，具體有好幾個因素:引進(jìn)真空室的氣體在壓力環(huán)境中不會電離，在充入氣體電離...
發(fā)布時間:2022-12-09
plasma原子團(tuán)化學(xué)反應(yīng)在多晶硅工業(yè)行業(yè)的應(yīng)用研究： 化學(xué)反應(yīng)即原子或原子團(tuán)層面的重新組合，需要外界提供必要的反應(yīng)活化能。相對plasma而言，工業(yè)生產(chǎn)的反應(yīng)物質(zhì)多呈密集的凝聚態(tài)。參加...
發(fā)布時間:2022-12-05
測試表明:crf等離子火焰處理機(jī)與NiO/Y-Al203催化機(jī)理： crf等離子火焰處理機(jī)與負(fù)載型調(diào)整金屬氧化物催化劑聯(lián)合作用對產(chǎn)物C2、CO生成過程影響不同。Na2WO4/Y-Al2O3具有很高的C2烴收率(17....
發(fā)布時間:2022-12-02
”干式”清潔-等離子體表面處理設(shè)備的高效表層清潔: 干式等離子前處理塑料、鋁甚至玻璃的后期噴涂工藝開創(chuàng)了最理想的表層條件。 等離子清洗是一類”干式”清潔過程，...
發(fā)布時間:2022-12-01
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