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CRF plasma 等離子清洗機

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等離子體表層處理工藝是1種干法_取代了傳統(tǒng)的濕式工序

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等離子體表層處理

1.等離子體表層處理環(huán)境保護工藝:等離子體的作用是氣-固相干反應,不消耗水資源,不需要添加化學試劑
2.等離子體表層處理效率高:可以在更短的時間內(nèi)完成整個過程,提高工作效率,使清洗效率大大提高。整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成,其清洗效率高;
3.等離子體表層處理成本低:設備簡單,易于操作和維修,用少量氣體代替了昂貴的清潔劑,同時無廢液費用;不污染環(huán)境。
4.等離子體表層處理操作更精細:能夠深入到微孔和凹坑內(nèi)部,完成清潔任務;
5.等離子體表層處理適用范圍廣:低溫等離子表層處理工藝可以對大多數(shù)固體物質(zhì)進行處理,為此其使用范圍十分普遍。等離子體清洗可不分處理對象,可處理多種材料,無論是金屬、半導體、氧化物、高分子材料等,均可采用低溫等離子米處理。
6.等離子體表層處理使用等離子清洗可以大大提高清洗效率。整個清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成,其清洗效率高;
7.等離子體表層處理在完成清污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。例如改善表面的潤濕性、提升粘接性等,在許多使用中都很重要。
伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展。不一樣工序?qū)υO備的技術(shù)標準愈來愈高,低溫等離子表層處理工藝的出現(xiàn),不僅改善了設備性能,提高了生產(chǎn)效率,而且還達到了安全環(huán)保的目的。離子表層處理工藝廣泛應用于材料科學、聚合物科學、生物醫(yī)學、材料科學等領域。這一廣泛的應用領域和巨大的發(fā)展空間,促使低溫等離子表層處理在我國得到了快速的發(fā)展。

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