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CRF plasma 等離子清洗機

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怎么選擇真空crf等離子設備氣路和品牌廠家

怎么選擇真空crf等離子設備氣路和品牌廠家:
一、真空crf等離子設備氣路的選擇
       常見的真空等離子體清洗機是兩個氣體通道,但這并不能滿足所有的處理需求。如果需要更多的反應氣體,則應適當增加氣體通道,這也是根據(jù)客戶的實際需要選擇幾個氣體通道。
二、真空crf等離子設備選擇的品牌
       引進的等離子清洗劑產品開發(fā)較早,產品比較成熟,但供貨周期長,售后維護服務不及時,產品更新?lián)Q代緩慢,在人性化設計、自動化程度、應用擴展等方面沒有及時更新、升級,而且價格較高。我國真空等離子設備市場正處在快速發(fā)展階段,各廠家的產品質量參差不齊,部分廠家缺乏基礎研究與應用知識,品牌意識不強,售后服務不夠重視,一錘子買賣。

等離子設備

       crf等離子設備處理部件歸納起來有兩方面的作用——物理和化學。物理化學作用:利用多種活性劑,如等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等,使部件表面的原子或附著材料表面上的原子擊出,使其表面上的原子、原表面上的污漬和雜質清除(除)表面原有的污漬和雜質,與此同時會形成刻蝕效應,使部件表面變“粗糙”,形成許多微細凹坑,從而使樣品表面出現(xiàn)凹痕。
       真空crf等離子設備在發(fā)展過程中,不斷結合客戶的實際需要開發(fā)出新的功能,從功能上來分真空等離子清洗機主要分為手動版和自動版,手動版也叫基礎版,價格較為便宜,自動版相對于手動版功能上增加了設置清洗時間、自動泄壓、微電腦控制、提供兩路進氣(以便在清洗的時候通入氧氣,所以也有客戶把可以通入氧氣清洗的等離子清洗機稱為氧等離子清洗機),泄壓速度可以調節(jié)(適用于清洗石墨烯或者金屬氧化物粉末),泄壓時可以提供N2泄壓的接口等,建議客戶在預算充裕的情況下選擇自動版本,后期的使用要方便很多。


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