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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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用CRF等離子體清洗設(shè)備對(duì)物件表層進(jìn)行活化和清洗的三種常用氣體的區(qū)別

用CRF等離子體清洗設(shè)備對(duì)物件表層進(jìn)行活化和清洗的三種常用氣體的區(qū)別:
1)AR和H2的相混應(yīng)用不僅可以增加焊盤的粗糙度,還能夠有效清理焊盤表層的有機(jī)污染物質(zhì),還能夠修復(fù)表層的輕微氧化,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體包裝、SMT等行業(yè)。

等離子體清洗設(shè)備

2)H2類似于O2,它是一種高活性氣體,可以激活和清潔表層。氫和氧的區(qū)別主要是反應(yīng)后形成的活性基團(tuán)不同。與此同時(shí),氫有還原性,可用來清理金屬表層的微氧化層,不容易破損表層敏感的有機(jī)層。所以,它廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體和電路板制造業(yè)。由于氫是一種危險(xiǎn)氣體,在沒有電離的情況下與O2結(jié)合時(shí)會(huì)自爆,所以在等離子體清洗設(shè)備中通常嚴(yán)禁相混2種氣體。氫等離子體在真空等離子體狀態(tài)下呈紅色,類似于氬等離子體,在相同的放電環(huán)境下略深于氬等離子體。
3)N2由等離子體清洗設(shè)備電離形成的等離子體可與部分分子結(jié)構(gòu)發(fā)生關(guān)鍵反應(yīng),也是一種活性氣體,但與氧氣和氫氣相比,其粒子較重,通常在等離子體清洗機(jī)應(yīng)用中定義為活性氣體氧氣、氫氣和惰性氣體氬氣之間的氣體。在CRF等離子體清洗設(shè)備的清洗和活化中,可以達(dá)到一定的轟擊和腐蝕效果,防止部分金屬表層氧化。N2與其他氣體組合形成的等離子體通常用來某些特殊材料的處理。真空等離子體清洗設(shè)備的氮等離子體也是紅色的,在相同的放電環(huán)境下,氮等離子體比氬等離子體和氫等離子體更亮。

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